電子要素研究室の主な研究テーマ

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（１） スパッタ法による薄膜作製技術の開発に関する研究テーマ

�@ スパッタ法による薄膜堆積過程の解明とその計算機シミュレーション手法の開発

�A スパッタ堆積粒子の運動エネルギー制御堆積法（スパッタビーム堆積法）の開発

�B 低電圧スパッタ法による薄膜堆積技術の開発

�C 原子層積層法による各種薄膜の作製

�D 液体窒素温度スパッタ成膜技術の開発

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（２） 各種薄膜作製への応用に関する研究テーマ

�@ 超高密度磁気記録用磁性薄膜の開発

薄膜媒体：・六方晶バリウムフェライト薄膜薄膜媒体の開発
　　　　　　 ・Co系高磁気異方性エネルギー合金薄膜媒体の開発

ヘッド用軟磁性薄膜：・窒化鉄系高飽和磁化軟磁性薄膜の開発

�Aダイヤモンドライクカーボン保護膜の開発

�Bプラスチック基板上への低抵抗透明導電膜作製技術の開発

�C高屈折率薄膜の開発

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薄膜堆積用スパッタ装置
マグネトロンスパッタ装置　　：　　２ターゲット　　２台
(低電圧スパッタ装置を含む） 　　３ターゲット　　２台　

対向ターゲット式スパッタ装置：　１ターゲット　　１台
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２ターゲット　　１台
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３ターゲット　　２台
スパッタビーム堆積装置：　　　　　　　　　　　　　１台

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