電子要素研究室の主な研究テーマ
（１） スパッタ法による薄膜作製技術の開発に関する研究テーマ
① スパッタ法による薄膜堆積過程の解明とその計算機シミュレーション手法の開発
② スパッタ堆積粒子の運動エネルギー制御堆積法（スパッタビーム堆積法）の開発
③ 低電圧スパッタ法による薄膜堆積技術の開発
④ 原子層積層法による各種薄膜の作製
⑤ 液体窒素温度スパッタ成膜技術の開発
（２） 各種薄膜作製への応用に関する研究テーマ
① 超高密度磁気記録用磁性薄膜の開発
薄膜媒体：・六方晶バリウムフェライト薄膜薄膜媒体の開発
・Co系高磁気異方性エネルギー合金薄膜媒体の開発
ヘッド用軟磁性薄膜：・窒化鉄系高飽和磁化軟磁性薄膜の開発
②ダイヤモンドライクカーボン保護膜の開発
③プラスチック基板上への低抵抗透明導電膜作製技術の開発
④高屈折率薄膜の開発
薄膜堆積用スパッタ装置
マグネトロンスパッタ装置 ： ２ターゲット ２台
(低電圧スパッタ装置を含む） ３ターゲット ２台
対向ターゲット式スパッタ装置： １ターゲット １台
２ターゲット １台
３ターゲット ２台
スパッタビーム堆積装置： １台
電子要素研究室へ
電子情報工学科へ
東京工芸大学へ